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机译:蚀刻衬底表面的方法以及在该方法的实践中用于展开的安装
公开/公告号PT908535E
专利类型
公开/公告日2003-11-28
原文格式PDF
申请/专利权人 RECHERCHE ET DEVELOPPEMENT GROUPE COCKERILL SAMBRE;
申请/专利号PT19970203136T
发明设计人 ALAIN WEYMEERSCH;PIERRE VANDEN BRANDE;
申请日1997-10-08
分类号C23G5/00;H01J37/34;
国家 PT
入库时间 2022-08-21 23:08:50
机译: 用于处理例如表面处理的基材的方法硅片的冲洗,蚀刻,抛光和清洁包括均匀地选择处理介质沿基板表面的速度
机译: 路面等平面物体图像的平面展开图像处理方法,反向展开图像转换处理方法及其平面展开图像处理装置,反向展开图像转换处理装置
机译: 用于执行等离子体处理的等离子体处理设备,例如膜沉积过程,表面改性过程以及对大矩形基板的蚀刻过程及其等离子体处理方法