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机译：使用光学光刻技术生产subv u00e5gl u00e4ngdm u00f6nster
公开/公告号SE0402564D0
专利类型
公开/公告日2004-10-19
原文格式PDF
申请/专利权人 LENNART OLSSON;
申请/专利号SE20040002564
发明设计人
申请日2004-10-19
分类号G03F;
国家 SE
入库时间 2022-08-21 23:07:41
机译： 化合物，其制造方法，组成，光学部件形成用组合物，光刻用膜形成用组合物，抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，放射线敏感性组合物，非晶膜的制造方法，光刻用下层，成膜材料，形成用组合物用于光刻的底层膜，用于光刻的底层膜的制造方法，抗蚀剂图案形成方法，电路图案形成方法和纯化方法
机译： 膜形成材料，用于光刻的膜形成组合物，用于光学成分形成的材料，抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，用于抗蚀剂的永久膜，辐射敏感组合物，用于制造非晶膜，膜的材料，基底膜用于光刻的底层膜形成，用于光刻的底层膜的制造方法以及电路图案形成方法
