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Stray light suppression structures using a waverguide and angled, deep etched trendches filled with an absorbing material

机译:使用波导管和成角度的深蚀刻趋势的杂散光抑制结构,该趋势被吸收材料填充

摘要

The present invention relates to an optical waveguide structure comprising a waveguide input section (14) and a waveguide output section (16), at least one of which having a straight geometry, and a single trench (26) formed adjacent to one of said sections (14, 16). The trench is adapted to absorb stray light within said structure and extends obliquely relative to the adjacent section (14, 16).
机译:本发明涉及一种光波导结构,其包括波导输入部分(14)和波导输出部分(16),其中至少一个具有平直的几何形状,以及与所述部分之一相邻形成的单个沟槽(26)。 (14,16)。该沟槽适于吸收所述结构内的杂散光,并且相对于相邻部分(14、16)倾斜地延伸。

著录项

  • 公开/公告号EP1396741A1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-03-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 AVANEX CORPORATION;

    申请/专利号EP20020360257

  • 发明设计人 KERSTEN PETER DR.;SCHREIBER GERHARD DR.;

    申请日2002-09-04

  • 分类号G02B6/122;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 22:53:07

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