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Varactor having improved Q-factor using SiGe heterojunction bipolar transistor and method for fabricating the same

机译:使用SiGe异质结双极晶体管具有改善的Q因子的变容二极管及其制造方法

摘要

A varactor includes a semiconductor substrate of a first conductivity type, a high-concentration buried collector region of a second conductivity type formed in an upper portion of the semiconductor substrate, a collector region of the second conductivity type formed on a first surface of the high-concentration buried collector region, a high-concentration collector contact region of the second conductivity type formed on a second surface of the high-concentration buried collector region, a high-concentration silicon-germanium base region of the first conductivity type formed on the collector region, a metal silicide layer formed on the silicon-germanium base region, a first electrode layer formed to contact the metal silicide layer, and a second electrode layer formed to be electrically connected to the collector contact region.
机译:变容二极管包括第一导电类型的半导体衬底,形成在半导体衬底的上部中的第二导电类型的高浓度掩埋集电极区域,形成在半导体衬底的第一表面上的第二导电类型的集电极区域。浓度掩埋集电极区域,在高浓度掩埋集电极区域的第二表面上形成的第二导电类型的高浓度集电极接触区域,在集电极上形成的第一导电类型的高浓度硅锗基区域区域,形成在硅锗基极区域上的金属硅化物层,形成为与金属硅化物层接触的第一电极层,以及形成为电连接到集电极接触区域的第二电极层。

著录项

  • 公开/公告号KR100425578B1

    专利类型

  • 公开/公告日2004-04-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20010057175

  • 发明设计人 서동우;민봉기;강진영;

    申请日2001-09-17

  • 分类号H01L29/73;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:47:15

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