声明
摘要
第一章绪论
1.1 SiGe HBT的发展历史及现状
1.2 SiGe HBT的应用前景及研究意义
1.3本论文的主要工作及内容安排
第二章SiGe HBT的基本工作原理
2.1 Si/Si1-xGex材料的基本特性
2.1.1晶格常数及晶格失配率
2.1.2禁带宽度
2.1.3应变层的临界厚度
2.1.4介电常数
2.1.5载流子复合
2.2 SiGe HBT的基本工作原理
第三章SiGe HBT的性能分析及其设计依据
3.1 SiGe HBT的性能分析
3.1.1 SiGe HBT工作电流及电流增益的改善
3.1.2特征频率的计算及分析
3.1.3最高振荡频率的计算及分析
3.1.4 Early电压VA的计算及分析
3.2 SiGe HBT的设计依据
3.2.1发射区的设计
3.2.2基区的设计
3.2.3集电区的设计
第四章实现SiGe HBT可制造性设计的仿真环境
4.1工艺级仿真工具——Sentaurus Process
4.2网格优化工具——Sentaurus Structure Editor
4.3器件物理特性级模拟工具-Sentaurus Device
4.4仿真结果分析工具
4.4.1一维特性分析工具——Inspect
4.4.2多维结构分析工具——Tecplot SV
4.5集成虚拟化设计平台——Sentaurus WorkBench
第五章超高频SiGe HBT的可制造性设计
5.1超高频SiGe HBT的工艺级仿真
5.2超高频SiGe HBT的物理特性级模拟
5.2.1超高频SiGe HBT的直流特性
5.2.2超高频SiGe HBT的频率特性
5.2.3超高频SiGe HBT的击穿特性
5.3超高频SiGe HBT的可制造性设计
第六章超高频SiGe HBT的可制造性设计结果及分析
6.1工艺参数变化对电流增益的影响
6.2工艺参数变化对频率特性的影响
6.3工艺参数变化对击穿特性的影响
6.4超高频SiGe HBT的设计结果
结束语
参考文献
致谢
攻读硕士学位期间发表的论文
山东大学;