机译:制造元素阵列的过程以及制造超声传感器阵列的过程
公开/公告号JP2005101748A
专利类型
公开/公告日2005-04-14
原文格式PDF
申请/专利权人 FUJI PHOTO FILM CO LTD;
申请/专利号JP20030330200
发明设计人 OSAWA ATSUSHI;
申请日2003-09-22
分类号H04R17/00;A61B8/00;G01N29/24;H02N2/00;H04R31/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 22:32:35