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机译:在聚合物基材上沉积阻挡涂层的方法和包含所述阻挡涂层的组合物
公开/公告号AU2002329170B2
专利类型
公开/公告日2005-07-07
原文格式PDF
申请/专利权人 HONEYWELL INTERNATIONAL INC.;
申请/专利号AU20020329170
发明设计人 GARY A. WEST;ROBERT J. SACCOMANNO;RONALD F. JR. WELCH;
申请日2002-02-19
分类号B05D7/02;
国家 AU
入库时间 2022-08-21 22:13:34
机译: 阻挡涂层的组合物包括一种方法,并且所述阻挡涂层沉积在聚合物基底上
机译: 在聚合物基体上沉积阻隔涂层的方法和包含所述的阻隔涂层的组合物