首页> 外国专利> Ferroelectric Capacitor Formation Method with Lower Electrode with Reduced Leakage Current

Ferroelectric Capacitor Formation Method with Lower Electrode with Reduced Leakage Current

机译:具有降低漏电流的下电极的铁电电容器的形成方法

摘要

The present invention relates to a ferroelectric capacitor for improving leakage current characteristics and a method of forming the same when using a ruthenium dioxide (RuO 2 ) film as a lower electrode of a ferroelectric capacitor, wherein the conductive film plug on the lower layer including a conductive plug A first ruthenium dioxide electrode connected to the first electrode; A first diffusion barrier layer disposed on the first ruthenium dioxide electrode to prevent oxygen diffusion into the first ruthenium dioxide electrode; A crystallized ferroelectric thin film on the diffusion barrier; And a second ruthenium dioxide electrode formed on the ferroelectric thin film.
机译:本发明涉及一种用于改善漏电流特性的铁电电容器及其在使用二氧化钌(RuO 2 )膜作为铁电电容器的下电极时的形成方法,其中,导电膜插塞在包括导电插塞的下层上。第一二氧化钌电极连接到第一电极;第一扩散阻挡层设置在第一二氧化钌电极上,以防止氧气扩散到第一二氧化钌电极中;扩散势垒上的结晶铁电薄膜;在铁电薄膜上形成第二二氧化钌电极。

著录项

  • 公开/公告号KR100458084B1

    专利类型

  • 公开/公告日2005-06-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC.;

    申请/专利号KR19970075086

  • 发明设计人 유용식;

    申请日1997-12-27

  • 分类号H01L27/108;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 22:04:19

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号