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How to create masks, masks for use in lithography, the lithographic apparatus, and device manufacturing method

机译:如何制作掩模,用于光刻的掩模,光刻设备以及器件制造方法

摘要

A reflective mask has a sub-resolution texture applied to absorbing areas to reduce the amount of power in the specular reflection. The texture may form a phase contrast grating or may be a diffuser. The same technique may be applied to the other absorbers in a lithographic apparatus.
机译:反射掩模的亚分辨率纹理应用于吸收区域,以减少镜面反射中的光焦度。纹理可以形成相衬光栅或者可以是漫射器。可以将相同的技术应用于光刻设备中的其他吸收体。

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