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Two-dimensional patterning method, electronic device using same, and magnetic device fabricating method

机译:二维图案化方法,使用其的电子器件以及磁性器件的制造方法

摘要

A novel two-dimensional patterning method enabling two-dimension patterning without using any photosensitive material and ion milling, wherein a two-dimensional pattern is formed by destroying a blister provided on a substrate by electron or ion irradiation.
机译:一种新颖的二维图案化方法,其能够在不使用任何光敏材料的情况下进行二维图案化并且不进行离子铣削,其中通过通过电子或离子辐射破坏设置在基板上的泡罩来形成二维图案。

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