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Method for electron beam-initiated coating for application of transmission electron microscopy

机译:用于透射电子显微镜的电子束引发涂层的方法

摘要

A method for preparing a specimen for application of microanalysis thereto includes forming an initial conductive layer over a defined area of interest on a semiconductor substrate, the initial conductive layer formed through an electron beam deposition process. A volume of substrate material surrounding the area of interest is removed, thereby forming the specimen, including said area of interest and said initial conductive layer over the area of interest. The specimen is then removed from the bulk substrate material.
机译:一种用于准备在其上进行微分析的样品的方法,包括在半导体衬底上的限定的目标区域上形成初始导电层,该初始导电层通过电子束沉积工艺形成。去除围绕感兴趣区域的一定体积的衬底材料,从而形成样本,包括所述感兴趣区域和在感兴趣区域上方的所述初始导电层。然后从块状基质材料中除去样品。

著录项

  • 公开/公告号US7180061B2

    专利类型

  • 公开/公告日2007-02-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 WEI LU;

    申请/专利号US20040711644

  • 发明设计人 WEI LU;

    申请日2004-09-29

  • 分类号G01N31/00;G01N33/00;G01N23/00;G21K7/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 21:00:31

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