首页> 外国专利> THERMAL-NETWORKABLE HYDROXYAMINO LITHOGRAPHIC LAYERING 193 NM

THERMAL-NETWORKABLE HYDROXYAMINO LITHOGRAPHIC LAYERING 193 NM

机译：热网络羟胺光刻技术193 NM

页面导航

摘要
著录项
相似文献

摘要

A photolithographic sensitive coated substrate comprising a thermally cured undercoat on the substrate, and a radiation-sensitive resist topcoat on the thermally cured undercoat.

机译：光刻敏感的涂覆基材，包括在基材上的热固化的底涂层和在热固化的底涂层上的辐射敏感性抗蚀剂面涂层。

著录项

公开/公告号AT363513T

专利类型
公开/公告日2007-06-15

原文格式PDF
申请/专利权人 FUJIFILM ELECTRONIC MATERIALS USA INC.;
展开▼

申请/专利号AT20000916239T
发明设计人 FOSTER PATRICK;SLATER SIDNEY;STEINHAUSLER THOMAS;BLAKENEY ANDREW;BIAFORE JOHN;
展开▼

申请日2000-03-10
分类号C08K5/3492;G03F7/11;B41C1/10;B41M5/36;B41N1/08;B41N1/14;C08F4/04;C08F8/32;C08F12/22;C08F220/28;C08K5/42;C08L29/02;C08L29/08;C09D125/08;C09D125/18;G03C1/492;G03C1/76;G03F7/039;G03F7/075;G03F7/09;G03F7/26;G03F7/40;H01L21/027;
国家 AT
入库时间 2022-08-21 20:55:09

相似文献

专利
外文文献
中文文献