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谢常青; 叶甜春; 陈梦真;
中国照明学会;
光源; 照明系统; 掩模工艺; 光刻胶; 光刻机;
机译:使用X射线和离子束光刻技术比较新型光刻胶(DiaPlate 133)与SU-8
机译:用于193nm浸没式光刻的无面漆光刻胶
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:193nm光刻在193nm光刻形成的有效解决方案
机译:使用相干的反斯托克斯拉曼散射和X射线显微光谱技术研究基于硅的光刻胶。
机译:用光刻法对金属-氧化物外延隧道结进行X射线衍射成像:使用聚焦和未聚焦X射线束
机译:使用193nm CW光源启用邻近掩模对齐器光刻
机译:等离子沉积的甲硅烷基化抗蚀剂用于193nm光刻
机译:193nm光刻的双层感光层中的显影剂的可溶性和底部抗反射涂层
机译:显影剂可溶性碱防酸涂膜中用于193nm光刻的双层光敏性
机译:用于193NM光刻的羟基氨基热固性底漆
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