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Method for measuring interface traps in thin gate oxide MOSFETs

机译:薄栅氧化物MOSFET中界面陷阱的测量方法

摘要

A method for measuring interface traps in a MOSFET, comprising measuring charge pumping current of a pulse wave form for various frequencies over a predetermined frequency range, creating plotted points of the measured charge pumping current versus the predetermined frequency range, determining the total number of interface traps participating in the charge pumping current by calculating the slope of a best fit line through the plotted points.
机译:一种用于测量MOSFET中的界面陷阱的方法,包括:针对预定频率范围内的各种频率,测量脉冲波形的电荷泵浦电流;创建所测量的电荷泵浦电流相对于预定频率范围的标绘点;确定界面的总数通过计算通过绘制点的最佳拟合线的斜率来捕获参与电荷泵浦电流的陷阱。

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