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Metal semiconductor field effect transistors (MESFETS) having channels of varying thicknesses and related methods

机译:具有变化厚度的沟道的金属半导体场效应晶体管(MESFETS)和相关方法

摘要

A unit cell of a metal-semiconductor field-effect transistor (MESFET) is provided. The unit cell includes a MESFET having a source, a drain and a gate. The gate is between the source and the drain and on a channel layer of the MESFET. The channel layer has a first thickness on a source side of the channel layer and a second thickness, thicker than the first thickness, on a drain side of the channel layer. Related methods of fabricating MESFETs are also provided herein.
机译:提供了金属半导体场效应晶体管(MESFET)的单位单元。单位单元包括具有源极,漏极和栅极的MESFET。栅极在源极和漏极之间,并在MESFET的沟道层上。沟道层在沟道层的源极侧上具有第一厚度,并且在沟道层的漏极侧上具有比第一厚度厚的第二厚度。本文还提供了制造MESFET的相关方法。

著录项

  • 公开/公告号US7402844B2

    专利类型

  • 公开/公告日2008-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SAPTHARISHI SRIRAM;

    申请/专利号US20050289158

  • 发明设计人 SAPTHARISHI SRIRAM;

    申请日2005-11-29

  • 分类号H01L29/778;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 20:10:47

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