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A method for producing an arsenic - dopant for the pulling of silicon single crystals

机译:一种拉单晶硅的砷掺杂剂的生产方法。

摘要

A method for producing a as - dopant for pulling a silicon single crystal, comprising:Mixing of granular, acicular or pulverulent arsenic and pulverulent silicon to a molar ratio of the silicon of 35% to 55% relative to the arsenic andSintering the mixture in a vacuum at a temperature of 816°C. to 944°C, wherein the grain size of the arsenic 2 mm in diameter.
机译:一种制备用于提拉单晶硅的掺杂剂的方法,包括:混合颗粒状,针状或粉状砷和粉状硅,使硅相对于砷的摩尔比为35%至55%,并将混合物烧结在硅中在816°C的温度下抽真空。至944℃,其中砷的晶粒直径为2毫米。

著录项

  • 公开/公告号DE102005013787B4

    专利类型

  • 公开/公告日2008-01-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号DE20051013787

  • 发明设计人

    申请日2005-03-24

  • 分类号C30B15/04;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:50:02

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