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Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California
Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California
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1.
Study of the Effects of a Two-Step Anneal on the End of Range Defects in Silicon
机译:
两步退火对硅靶缺陷结束的影响研究
作者:
Renata A. Camillo-Castillo
;
Kevin. S. Jones
;
Mark E. Law
;
Leonard M. Rubin
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
2.
Structural and optical properties of the multilayer structures formed by Ge sub-critical insertions in a Si matrix
机译:
Si基质中Ge次临界插入形成的多层结构的结构和光学性质
作者:
George E. Cirlin
;
Nikolai D. Zakharov
;
Peter Werner
;
Alexander G. Makarov
;
Andrei F. Tsatsulnikov
;
Victor M. Ustinov
;
Nikolai N. Ledentsov
;
Vyatcheslav A. Egorov
;
Ulrich Goesele
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
3.
Single-Shot Excimer Laser Annealing and In Process Ellipsonietry Analysis for Ultra Shallow Junctions
机译:
超浅结的单发准分子激光退火和过程椭圆分析
作者:
T. Noguchi
;
G. Kerrien
;
T. Sarnet
;
D. Debarre
;
J. Boulmer
;
D. Zahorski
;
M. Hernandez
;
C. Defranoux
;
C. Laviron
;
M.-N. Semeria
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
4.
Simulation of Transient Enhanced Diffusion in Silicon Taking into Account Ostwald Ripening of Defects
机译:
考虑缺陷奥斯特瓦尔德熟化的硅瞬态增强扩散的模拟
作者:
Masashi Uematsu
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
5.
Silicon Self-Interstitial Cluster Formation and Dissolution in SOI
机译:
SOI中硅自填隙团簇的形成与溶解
作者:
A. Saavedra
;
J. Frazer
;
D. Wrigley
;
K. Jones
;
I. Avci
;
S. Earles
;
M. Law
;
E. Jones
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
6.
Self-interstitials and substitutional C in silicon: Interstitial- trapping and C- clustering
机译:
硅中的自填隙和取代C:填隙捕获和C聚类
作者:
S. Mirabella
;
S. Scalese
;
A. Terrasi
;
F. Priolo
;
A. Coati
;
D. De Salvador
;
E. Napolitani
;
M. Berti
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
7.
Effect of Laser Thermal Processing on Defect Evolution in Silicon
机译:
激光热处理对硅中缺陷发展的影响
作者:
Erik Kuryliw
;
Kevin S. Jones
;
David Sing
;
Michael J. Rendon
;
Somit Talwar
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
8.
Effect of Fluorine on the Diffusion of Boron in Amorphous Silicon
机译:
氟对硼在非晶硅中扩散的影响
作者:
J. M. Jacques
;
L. S. Robertson
;
K. S. Jones
;
Joe Bennett
;
Mike Rendon
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
9.
Modeling Fermi Level Effects in Atomistic Simulations
机译:
在原子模拟中模拟费米能级效应
作者:
Zudian Qin
;
Scott T. Dunham
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
10.
Modeling of self-interstitial diffusion in implanted molecular beam epitaxy silicon
机译:
注入的分子束外延硅中自填隙扩散的建模
作者:
D. De Salvador
;
A. Mattoni
;
E. Napolitani
;
A. V. Drigo
;
S. Mirabella
;
F. Priolo
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
11.
Modeling of TED and Point Defect Parameter Extraction
机译:
TED建模和点缺陷参数提取
作者:
Heidi Meyer
;
Scott T. Dunham
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
12.
Low Temperature Shallow Junction Formation For 70nm Technology Node And Beyond
机译:
适用于70nm及以上工艺节点的低温浅结形成
作者:
John O. Borland
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
13.
EXPERIMENTAL STUDY ON THE MECHANISM OF CARBON DIFFUSION IN SILICON
机译:
硅中碳扩散机理的实验研究
作者:
N.E.B. COWERN
;
B. COLOMBEAU
;
F. ROOZEBOOM
;
M. HOPSTAKEN
;
H. SNIJDERS
;
P. MEUNIER-BEILLARD
;
W. LERCH
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
14.
Electrical and Structural Characterization of Boron Implanted Silicon Following Laser Thermal Processing
机译:
激光热处理后注入硼的硅的电学和结构表征
作者:
K. A. Gable
;
K. S. Jones
;
M. E. Law
;
L. S. Robertson
;
S. Talwar
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
15.
Electrical Activity of B and As Segregated at the Si-SiO_2 Interface
机译:
B和As的电活性偏析在Si-SiO_2界面
作者:
Jens Fruehauf
;
Richard Lindsay
;
Andreas Bergmaier
;
Wilfried Vandervorst
;
Georg Tempel
;
Karen Maex
;
Guenther Dollinger
;
Frederick Koch
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
16.
Thermal Evolution of Extrinsic Defects in Ion Implanted Silicon: Current Understanding and Modelling
机译:
离子注入硅中外在缺陷的热演化:当前的理解和建模
作者:
Fuccio Cristiano
;
Benjamin Colombeau
;
Bernadette de Mauduit
;
Caroline Bonafos
;
Gerard Benassayag
;
Alain Claverie
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
17.
The Local Structure of Antimony in High Dose Antimony Implants in Silicon by XAFS and SIMS
机译:
XAFS和SIMS在硅大剂量锑植入物中锑的局部结构
作者:
M. Alper Sahiner
;
Steven W. Novak
;
Joe C. Woicik
;
Yayoi Takamura
;
Peter B. Griffin
;
James D. Plummer
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
18.
SELECTIVE SILICON-GERMANIUM SOURCE/DRAIN TECHNOLOGY FOR NANOSCALE CMOS
机译:
纳米硅CMOS的选择性硅锗源/漏技术
作者:
M. C. Oeztuerk
;
N. Pesovic
;
J. Liu
;
H. Mo
;
I. Kang
;
S. Gannavaram
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
19.
S/D engineering for sub-100 nm MOSFET using ultra shallow junction formation technique, elevated S/D structure and SALICIDE technique
机译:
采用超浅结形成技术,增强的S / D结构和SALICIDE技术的100 nm以下MOSFET的S / D工程
作者:
Kazuya Ohuchi
;
Karma Adachi
;
Akira Hokazono
;
Yoshiaki Toyoshima
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
20.
Pulsed Force-Scanning Spreading Resistance Microscopy (PF-SSRM) for high spatial resolution 2D-dopant profiling
机译:
脉冲力扫描扩展电阻显微镜(PF-SSRM)用于高空间分辨率2D掺杂物分析
作者:
P. Eyben
;
M. Fouchier
;
P. Albart
;
J. Charon-Verstappen
;
W. Vandervorst
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
21.
A MODEL FOR BORON T.E.D. IN SILICON : FULL COUPLINGS OF DOPANT WITH FREE AND CLUSTERED INTERSTITIALS
机译:
BORON T.E.D.的模型硅中:掺杂剂与自由簇状填隙物的全偶联
作者:
F. Boucard
;
D. Mathiot
;
E. Guichard
;
P. Rivallin
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
22.
Optimisation of Junctions formed by Solid Phase Epitaxial Regrowth for sub-70nm CMOS
机译:
70nm以下CMOS固相外延生长结的优化
作者:
Richard Lindsay
;
Bartlomiej J. Pawlak
;
Peter Stolk
;
Karen Maex
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
23.
Ab-Initio Pseudopotential Calculations of Phosphorus Diffusion in Silicon
机译:
硅中磷扩散的从头算伪电位计算
作者:
Xiang-Yang Liu
;
Wolfgang Windl
;
Michael P. Masquelier
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
24.
Modeling of Diffusion and Activation of Low Energy Arsenic Implants in Silicon
机译:
低能砷植入物中硅扩散和活化的模型
作者:
Srinivasan Chakravarthi
;
Chidambaram P.R.
;
Charles Machala
;
Amitabh Jain
;
Xin Zhang
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
25.
Modeling Dislocation Loop Nucleation and Evolution in Germanium, Arsenic and Boron Implanted Silicon
机译:
锗,砷和硼注入硅中位错环成核和演化的模型
作者:
Ibrahim Avci
;
Mark E. Law
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
26.
Complete Suppression of the Transient Enhanced Diffusion of B Implanted in Preamorphized Si by Interstitial Trapping in a Spatially Separated C-Rich Layer
机译:
通过空间分隔的富C层中的间隙俘获,完全抑制植入非晶态硅中的B的瞬态增强扩散。
作者:
E. Napolitani
;
A. Coati
;
D. De Salvador
;
A. Camera
;
S. Mirabella
;
S. Scalese
;
F. Priolo
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
27.
Characterization and monitoring of silicon-on-insulator fabrication processes by high-resolution x-ray diffraction
机译:
高分辨率x射线衍射表征和监测绝缘体上硅制造工艺
作者:
G. M. Cohen
;
P.M. Mooney
;
H. Park
;
C. Cabral
;
E.C. Jones
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
28.
Thermal Stability and Substitutional Carbon Incorporation far above Solid-Solubility in Si_(1-x)C_x and Si_(1-x-y)Ge_xC_y Layers Grown by Chemical Vapor Deposition using Disilane
机译:
通过使用乙硅烷化学气相沉积法生长的Si_(1-x)C_x和Si_(1-x-y)Ge_xC_y层中的热稳定性和取代碳掺入量远高于固溶度
作者:
M. S. Carroll
;
J. C. Sturm
;
Princeton NJ
;
E. Napolitani
;
D. De Salvador
;
M. Berti
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
29.
Damage and dopant profiles produced by ultra-shallow boron and arsenic ion implants into silicon at different temperatures characterised by medium energy ion scattering
机译:
超浅硼和砷离子在不同温度下注入硅的过程中产生的损伤和掺杂分布,其特征为中能离子散射
作者:
J. A. van den Berg
;
D. G. Armour
;
S. Zhang
;
S. Whelan
;
M. Werner
;
E. H. J. Collart
;
R. D. Goldberg
;
P. Bailey
;
T. C. Q. Noakes
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
30.
Current Understanding and Modeling of Boron―Interstitial Clusters
机译:
当前对硼-间隙团簇的理解和建模
作者:
Peter Pichler
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
31.
Annealing behavior of locally confined dislocation loops under inert and oxidizing ambient
机译:
在惰性和氧化环境下局部约束位错环的退火行为
作者:
C. Tsamis
;
D. Skarlatos
;
I. Raptis
;
D. Tsoukalas
;
P. Calvo
;
B. Colombeau
;
F. Cristiano
;
A. Claverie
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
32.
Calibration of Phosphorus Implantation Dose in Silicon by Radiochemical Neutron Activation Analysis
机译:
放射化学中子活化分析法校正硅中磷的注入剂量
作者:
Rick L. Paul
;
David S. Simons
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
33.
Non-routine Dopant, Impurity and Stoichiometry Characterization of SiGe, SiON and Ultra-low Energy B-implanted Si Using Secondary Ion Mass Spectrometry
机译:
二次离子质谱法对SiGe,SiON和超低能B注入的Si的非常规掺杂剂,杂质和化学计量学表征
作者:
Charles W. Magee
;
Temel H. Buyuklimanli
;
John W. Marino
;
Steven W. Novak
;
M. Alper Sahiner
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
|
2002年
34.
Junction and Profile Analysis using Carrier Illumination
机译:
使用载波照明的结点和轮廓分析
作者:
T. Clarysse
;
W. Vandervorst
;
R. Lindsay
;
P. Borden
;
E. Budiarto
;
J. Madsen
;
R. Nijmeijer
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
35.
Laser Thermal Processing of Alternate Dopants in Silicon
机译:
硅中替代掺杂剂的激光热处理
作者:
Mark H. Clark
;
Kevin S. Jones
;
Michael Rendon
;
Kevin A. Gable
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
36.
Electromagnetic Induction Heating for the 70 nm Node
机译:
70 nm节点的电磁感应加热
作者:
Keith Thompson
;
John H. Booske
;
R.F. Cooper
;
Y.B. Gianchandani
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
37.
The Influence of Low Temperature Pre-Annealing on the Defect Removal and the Reduction of Junction Depth in Excimer Laser Annealing
机译:
准分子激光退火中低温预退火对缺陷去除和结深减小的影响
作者:
Sungkweon Baek
;
Taesung Jang
;
Hyunsang Hwang
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
38.
The Effect of Ge Content in MBE Si_(1-x) Ge_x on the Evolution of {311} Defects
机译:
MBE Si_(1-x)Ge_x中Ge含量对{311}缺陷演变的影响
作者:
Robert Crosby
;
Jackie Frazer
;
K. S. Jones
;
M. E. Law
;
A. Nylandsted Larsen
;
J. Lundsgaard Hansen
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
39.
Profile Changes and Self-sputtering during Low Energy Ion Implantation
机译:
低能离子注入过程中的轮廓变化和自溅射
作者:
W.Vandervorst
;
T.Janssens
;
B.Brijs
;
R.Lindsay
;
E. J. H. Collart
;
David A. Kirkwood
;
G. Mathot
;
G.Terwagne
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
40.
Ab-initio Calculations to Model Anomalous Fluorine Behavior
机译:
从头开始计算以模拟异常氟行为
作者:
Milan Diebel
;
Scott T. Dunham
会议名称:
《Symposium on Silicon Front-End Junction Formation Technologies, Apr 2-4, 2002, San Francisco, California》
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2002年
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