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Method of manufacturing a microlens, microlens and microlens array and electro-optical device and electronic equipment,

机译:制造微透镜,微透镜和微透镜阵列的方法以及电光装置和电子设备,

摘要

A method of manufacturing a microlens includes: forming on a transparent substrate an etching stop layer in a lens formation region where a curved lens surface of the microlens is to be formed, the etching stop layer having an island shape as a planar shape thereof; forming an intermediate layer on the etching stop layer; forming an etching mask layer on the intermediate layer, the etching mask layer having an opening at a position facing the etching stop layer; and etching, by means of isotropic etching, the intermediate layer from the opening, and etching the transparent substrate and the intermediate layer from a side of the etching stop layer.
机译:一种制造微透镜的方法,包括:在透明基板上的将要形成微透镜的弯曲透镜表面的透镜形成区域中形成蚀刻停止层,该蚀刻停止层具有岛状作为其平面形状;以及在蚀刻停止层上形成中间层;在中间层上形成蚀刻掩模层,该蚀刻掩模层在面对蚀刻停止层的位置具有开口。通过各向同性蚀刻从开口处蚀刻中间层,并从蚀刻停止层的一侧蚀刻透明基板和中间层。

著录项

  • 公开/公告号JP4285373B2

    专利类型

  • 公开/公告日2009-06-24

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;

    申请/专利号JP20040254816

  • 发明设计人 小澤 宣彦;

    申请日2004-09-01

  • 分类号G02B3/00;G02F1/1335;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 19:39:25

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