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折射型微透镜及微透镜阵列光学性质与制作技术的研究

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第一章引言

1.1微透镜与微透镜阵列

1.2衍射型微透镜与衍射型微透镜阵列

1.3折射型微透镜与微透镜阵列

1.3.1亚微米折射型微透镜与微透镜阵列

1.3.2传统折射型微透镜阵列

1.4本论文的主要工作

第二章亚微米微球体透镜与微椭球体透镜光学性质的研究

2.1亚微米微球体透镜光学性质的研究

2.1.1 Mie散射理论

2.1.2散射光的偏振

2.1.3微球体半径a对散射光电场分布的影响

2.1.4入射光波长λ对散射光电场分布的影响

2.1.5相对折射率m对散射光电场分布的影响

2.1.6微球体透镜的聚焦性能

2.1.7归一化散射截面、归一化消光截面与归一化吸收截面

2.2微椭球体透镜光学性质的研究

2.2.1 Eikonal近似方法

2.2.2用Eikonal近似方法确定等效球的半径和折射率

2.2.3椭球位置(θ0、φ0)对散射光强分布的影响

2.2.4椭球离心率变化对散射光强分布的影响

2.2.5入射光波长变化对散射光强分布的影响

2.2.6椭球聚光性能与其外切球和内接球的比较

2.3小结

第三章半球结构亚微米微透镜阵列光学性质的研究

3.1概述

3.2严格的耦合波理论

3.3结果与分析

3.4小结

第四章光刻胶热熔法制作微透镜阵列技术的研究

4.1概述

4.1.1基片预处理、涂胶和前烘

4.1.2曝光

4.1.3显影、坚膜与测试

4.1.4光刻胶热熔

4.1.5图案转移与复制技术

4.2微透镜阵列的各结构参数之间的关系

4.3提高折射型微透镜阵列的填充因子与F数

4.3.1基底预先涂胶法提高微透镜的F数

4.3.2台阶式多次曝光法

4.3.3采用光刻胶预成形法

4.3.4提高微透镜F数的机理

4.3.5采用缩短显影时间法提高折射型微透镜阵列的填充因子与F数

4.4利用离子束刻蚀技术制作玻璃微透镜阵列

4.4.1离子束刻蚀物理基础

4.4.2离子束刻蚀对微透镜阵列面形的影响

4.5利用折射率匹配层增大微透镜的焦距与F数

4.6柱透镜阵列与闪耀光栅制作工艺的研究

4.6.1全息-离子束刻蚀法制作闪耀光栅技术的研究

4.6.2全息-热熔-离子束刻蚀法制作柱透镜阵列工艺的探索

4.7小结

第五章总结与展望

5.1总结

5.2展望

参考文献

致谢

在读期间发表和待发表的学术论文

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摘要

本文研究了在折射型微透镜及微透镜阵列光学性质与制作技术。利用Mie散射理论对亚微米微球体透镜的光学性质进行了系统的分析,同时利用eikonal近似方法分析了亚微米微旋转椭球体透镜的光学性质;利用严格的耦合波理论对亚微米微透镜阵列的光学性质进行了分析,结果表明该类微透镜阵列经过合理的参数选择能起到抗反射的作用,从而为该类微透镜阵列找到了新的应用领域;研究了光刻胶热熔法制作微透镜阵列的工艺,采用了缩短显影时间法使微透镜阵列的F数与填充因子得到了提高,同时还探索了利用全息—离子束刻蚀法制作闪耀光栅与全息—热熔—离子束刻蚀法制作柱透镜阵列的技术,得到了比较理想的效果。

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