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EUVL MULTILAYER STRUCTURES

机译:EUVL多层结构

摘要

The reflectivity and thermal stability of Mo/Si (molybdenum/silicon) multilayer films, used in soft X-ray and extreme ultraviolet region, is enhanced by deposition of a thin layer of boron carbide (e.g., B4C) between alternating layers of Mo and Si. This is useful for reflective coatings for soft X-ray and extreme ultraviolet optics, multilayer for masks, coatings for other wavelengths and multilayers for masks that are more thermally stable than pure Mo/Si multilayers.
机译:通过在交替的Mo和Si层之间沉积碳化硼薄层(例如B4C),可以增强在软X射线和极紫外区域使用的Mo / Si(钼/硅)多层膜的反射率和热稳定性。硅。这对于用于软X射线和极紫外光学的反射涂层,用于掩模的多层,用于其他波长的涂层以及用于掩模的多层(比纯Mo / Si多层具有更高的热稳定性)非常有用。

著录项

  • 公开/公告号EP1384234B1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-02-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EUV LLC;

    申请/专利号EP20020731482

  • 发明设计人 BAJT SASA;BARBEE TROY W. JR.;

    申请日2002-04-23

  • 分类号G21K1/06;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 19:19:01

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