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机译:高速电弧等离子体沉积的保护涂层
公开/公告号KR100786439B1
专利类型
公开/公告日2009-03-31
原文格式PDF
申请/专利权人
申请/专利号KR19980024303
发明设计人 가스워드 스티븐 마크;양 베리 리-민;
申请日1998-06-26
分类号B05D7/14;
国家 KR
入库时间 2022-08-21 19:12:18
机译: 高速电弧等离子体沉积的保护涂层
机译: 通过高速电弧等离子体沉积进行保护涂层