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WELCOME FRONT-PRODUCED OPHTHAL MASS AREAS

机译:欢迎前生产的眼科大众区域

摘要

An embodiment of the invention is directed to a method for determining an anterior or posterior surface parameter of an ophthalmic correcting surface (e.g., custom contact lens "CCL," customized IOL, custom inlay, customized corneal surface) from a wavefront aberration measurement of an eye. A preferred embodiment relates to determining an anterior surface parameter of a dry, CCL designed to operate at 555 nm. An algorithm sets forth the method comprising misalignment correction, chromatic aberration correction, and power shift correction due to differences between aberration measurement wavelength and peak vision wavelength, and differences between aberration measurement location and aberration correction location. A device readable medium is the preferable vehicle for the algorithm.
机译:本发明的实施例涉及一种用于根据眼的波前像差测量来确定眼科矫正表面(例如,定制隐形眼镜“ CCL”,定制IOL,定制镶嵌物,定制角膜表面)的前表面参数或后表面参数的方法。眼。一个优选的实施方案涉及确定设计用于在555nm下运行的干燥的CCL的前表面参数。一种算法提出了一种方法,该方法包括由于像差测量波长和峰值视觉波长之间的差异以及像差测量位置和像差校正位置之间的差异而引起的失准校正,色像差校正和功率偏移校正。设备可读介质是该算法的优选载体。

著录项

  • 公开/公告号DE60325239D1

    专利类型

  • 公开/公告日2009-01-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 BAUSCH & LOMB INCORPORATED;

    申请/专利号DE20036025239T

  • 发明设计人 ALTMANN GRIFFITH E.;

    申请日2003-09-10

  • 分类号A61B3/103;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 19:07:50

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