要解决的问题:提供半导体鳍和鳍型场效应晶体管的结构,并提供其制造方法。解决方案:形成集成电路结构的方法包括:提供包括顶表面的半导体衬底的步骤;在半导体衬底中形成第一绝缘区域和第二绝缘区域的步骤;以及使第一绝缘区域和第二绝缘区域凹陷的步骤。第一绝缘区域和第二绝缘区域的其余部分的顶表面是平坦表面或草皮表面。半导体衬底的一部分在第一绝缘区域和第二绝缘区域之间并且与第一绝缘区域和第二绝缘区域的去除部分相邻形成鳍。
版权:(C)2011,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP2011097057A
专利类型
公开/公告日2011-05-12
原文格式PDF
申请/专利权人 台湾積體電路製造股▲ふん▼有限公司;
申请/专利号JP20100240535
申请日2010-10-27
分类号H01L29/78;H01L29/786;H01L21/76;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:24:35