机译:工作间隙调整方法,工作间隙调整装置的制造方法,液滴喷射装置及电光装置
公开/公告号JP4691975B2
专利类型
公开/公告日2011-06-01
原文格式PDF
申请/专利权人 セイコーエプソン株式会社;
申请/专利号JP20040355928
发明设计人 安 永植;
申请日2004-12-08
分类号B05D1/26;B05C5/00;B05C11/00;B05D3/00;B41J2/01;G02B5/20;H05B33/10;H01L51/50;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 18:18:18