机译:用于制造探针阵列的光致抗蚀剂组合物,使用光致抗蚀剂组合物制造光探针阵列的方法,用于光敏型显影的底部抗反射涂层的组合物,使用相同的图案制造方法以及使用相同的制造方法来制造
公开/公告号US2011189608A1
专利类型
公开/公告日2011-08-04
原文格式PDF
申请/专利权人 HYO-JIN YUN;JAE-HO KIM;YOUNG-HO KIM;BOO-DEUK KIM;JIN-A RYU;MYUNG-SUN KIM;SE-KYUNG BAEK;SOO-KYUNG KIM;JI-YUN HAM;
申请/专利号US201113015869
发明设计人 HYO-JIN YUN;JAE-HO KIM;YOUNG-HO KIM;BOO-DEUK KIM;JIN-A RYU;MYUNG-SUN KIM;SE-KYUNG BAEK;SOO-KYUNG KIM;JI-YUN HAM;
申请日2011-01-28
分类号G03F7/004;G03F7/20;
国家 US
入库时间 2022-08-21 18:12:34