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Improved modified substrate for removing aqueous oxyanions

机译:改进的用于去除含水氧阴离子的改性底物

摘要

A modified substrate for removing aqueous oxyanions formed by: selecting a substrate from minerals or mineral equivalents having a naturally moderate to high cation exchange capacity; forming a substrate modifier from salts of the Group IIIB and Group IVB elements by dissolving one or more of the salts in water at an elevated temperature; and blending the substrate with the substrate modifier at a high shear rate.
机译:一种用于除去含水氧阴离子的改性基质,其通过以下方法形成:从具有天然中等至高阳离子交换能力的矿物或矿物等价物中选择基质;通过在高温下将一种或多种盐溶解在水中,由IIIB族和IVB族元素的盐形成底物改性剂;以及以高剪切速率将所述基材与所述基材改性剂共混。

著录项

  • 公开/公告号PL394856A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-08-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 PHOSLOCK TECHNOLOGIES PTY LTD;

    申请/专利号PL20050394856

  • 发明设计人 FOUAD HAGSERESHT;

    申请日2005-03-09

  • 分类号C02F11/00;B09C1/08;C01B33/38;C01B33/40;C02F1/42;C02F1/58;C02F1/68;E01H12/00;E01H15/00;

  • 国家 PL

  • 入库时间 2022-08-21 18:04:53

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