首页> 外国专利> ATOMIC LAYER DEPOSITION USING ALKALINE EARTH METAL BETA-DIKETIMINATE PRECURSORS

ATOMIC LAYER DEPOSITION USING ALKALINE EARTH METAL BETA-DIKETIMINATE PRECURSORS

机译:使用碱土金属β-二酮前体的原子层沉积

摘要

The present invention provides atomic layer deposition systems and methods that include metal compounds with at least one β-diketiminate ligand. Such systems and methods can be useful for depositing metal-containing layers on substrates.
机译:本发明提供了原子层沉积系统和方法,其包括具有至少一个β-二酮基配体的金属化合物。这样的系统和方法可用于在基板上沉积含金属的层。

著录项

  • 公开/公告号EP1907600B1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-05-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MICRON TECHNOLOGY INC;

    申请/专利号EP20060774110

  • 发明设计人 QUICK TIMOTHY A.;

    申请日2006-06-27

  • 分类号C23C16/40;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 17:58:39

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号