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CELL STRUCTURE OF A DUAL PORT STATIC RANDOM ACCESS MEMORY, CAPABLE OF FORMING PASS-GATE TRANSISTOR UNITS IN AN IDENTICAL ACTIVE REGION

机译:双端口静态随机存取存储器的单元格结构,能够在同一个活动区域中形成门闸晶体管单元

摘要

PURPOSE: The cell structure of a dual port static random access memory(SRAM) is provided to be adapted to cells using finFET units by including a first access port and a second access port in connection with a first word-line conductor and a second word-line conductor.;CONSTITUTION: A pass-gate transistor(PG)-1 and a PG-2 are formed in a first active region(200). A PG-3 and a PG-4 are formed in a second active region(215). A pull-down transistor(PD)-12 and a PD-11 are formed in a third active region(205). A PD-21 and a PD-22 are formed in a fourth active region(210). The pull-up transistor(PU)-1 and a PU-2 are respectively formed in a fifth active region(220) and a sixth active region(225).;COPYRIGHT KIPO 2011
机译:目的:通过包括与第一字线导体和第二字连接的第一访问端口和第二访问端口,提供双端口静态随机存取存储器(SRAM)的单元结构,使其适合使用finFET单元的单元。组成:通过栅晶体管(PG)-1和PG-2形成在第一有源区域(200)中。 PG-3和PG-4形成在第二有源区(215)中。在第三有源区(205)中形成下拉晶体管(PD)-12和PD-11。 PD-21和PD-22形成在第四有源区(210)中。上拉晶体管(PU)-1和PU-2分别形成在第五有源区域(220)和第六有源区域(225)中。; COPYRIGHT KIPO 2011

著录项

  • 公开/公告号KR20110013212A

    专利类型

  • 公开/公告日2011-02-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO. LTD.;

    申请/专利号KR20100055684

  • 发明设计人 LIAW JHON JHY;

    申请日2010-06-11

  • 分类号G11C11/41;G11C5/14;G11C7/12;G11C8/08;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 17:52:37

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