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oxidkomplexlaminat, processes for the manufacture of a oxidkomplexlaminats and device

机译:氧化复层薄板,氧化复层薄板的制造方法和装置

摘要

A complex oxide laminate including: a substrate; a first complex oxide layer represented by a general formula ABO 3 formed above the substrate; and a second complex oxide layer represented by a general formula AB 1-x C x O 3 formed above the first complex oxide layer, an element A including at least Pb, an element B including at least one of Zr, Ti, V, W, and Hf, and an element C including at least one of Nb and Ta.
机译:一种复合氧化物层压板,包括:基材;在基板上方形成由通式ABO 3表示的第一复合氧化物层;以及在第一复合氧化物层上方形成的由通式AB 1-x C x O 3表示的第二复合氧化物层,元素A包括至少Pb,元素B包括Zr,Ti,V,W中的至少一个元素C包括Nb和Ta中的至少一种。

著录项

  • 公开/公告号DE602006017480D1

    专利类型

  • 公开/公告日2010-11-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SEIKO EPSON CORP.;

    申请/专利号DE20066017480T

  • 发明设计人 KIJIMA TAKESHI;OHASHI KOJI;HAMADA YASUAKI;

    申请日2006-08-10

  • 分类号H01L21/316;H01L21/02;H01L21/8246;H01L27/105;H01L27/115;H01L41/09;H01L41/187;H01L41/318;H01L41/39;H03H3/08;H03H9/25;

  • 国家 DE

  • 入库时间 2022-08-21 17:46:31

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