Toyama Prefectural University, Imizu, Toyama 939-0398, Japan;
green lithography; electron beam; high resolution; positive-tone; ethanol development;
机译:使用正糊精抗蚀剂材料对电子束光刻进行乙醇开发的环保工艺
机译:化学收缩工艺和用于下一代设备的材料辅助的新开发的分辨率增强光刻
机译:用机械剥离二维材料制造器件的光学光刻技术
机译:使用生物质纳米图案化材料和Ecofriendly开发的光刻工艺的光学MEMS器件的高批量制造
机译:基于III-V材料的光学MEMS器件,用于自适应光学和振动感应。
机译:超越CMOS:III-V器件RF MEMS和其他异种材料/器件与Si CMOS的异构集成以创建智能微系统
机译:光学光刻技术从机械剥离二维材料制造装置