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用于大量生产硅纳米线和/或纳米带的方法以及使用所述硅纳米线和/或纳米带的锂电池和阳极

摘要

本发明提供用于大量生产硅纳米线和/或纳米带的方法。本发明方法是采用蚀刻剂的化学蚀刻工艺,所述蚀刻剂相对于硅相优先从多相硅合金蚀刻并去除其它相,且允许获得残余的硅纳米线和/或纳米带。在蚀刻前,所述硅合金在所述多相硅合金的微结构中包含或经处理以包含一维和/或二维硅纳米结构。当被用作二次锂电池的阳极时,通过本发明方法生的硅纳米线或纳米带展现高储存容量。

著录项

  • 公开/公告号CN105612277A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2016-05-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SPI公司;

    申请/专利号CN201480055273.4

  • 发明设计人 X·孙;Y·胡;X·L·李;R·李;Q·杨;

    申请日2014-10-03

  • 分类号C30B29/60;C30B29/06;C30B33/10;H01M4/1395;H01M4/38;

  • 代理机构永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人过晓东

  • 地址 加拿大安大略

  • 入库时间 2023-12-18 15:20:54

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-03

    专利申请权的转移 IPC(主分类):C30B29/60 登记生效日:20190412 变更前: 变更后: 申请日:20141003

    专利申请权、专利权的转移

  • 2016-10-26

    实质审查的生效 IPC(主分类):C30B29/60 申请日:20141003

    实质审查的生效

  • 2016-05-25

    公开

    公开

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