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POSITIVE ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN FILM AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE COMPOSITION

机译:正极性射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,以及负极性射线敏感或辐射敏感的树脂膜和图案的形成方法

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which achieves high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness and suppression of outgassing, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin film and a pattern formation method using the same.;SOLUTION: A positive actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains a resin (P) including a repeating unit (A) having, in a side chain, nitrogen-containing heterocyclic cationic structure that is decomposed by irradiation of actinic ray or radiation for generating free acid.;COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT
机译:要解决的问题:提供一种正性光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物,该组合物可实现高灵敏度,高分辨率,良好的图案形状,良好的线边缘粗糙度和抑制脱气以及光化射线敏感或辐射敏感的敏感的树脂膜及其图案形成方法;解决方案:正性光化射线敏感或辐射敏感的树脂组合物包含树脂(P),该树脂(P)在侧链中包含重复单元(A),该重复单元(A)在侧链中含有通过光化射线或辐射分解而分解生成游离酸的杂环阳离子结构;版权所有:(C)2012,日本特许会计师事务所

著录项

  • 公开/公告号JP2012185281A

    专利类型

  • 公开/公告日2012-09-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FUJIFILM CORP;

    申请/专利号JP20110047572

  • 发明设计人 TSUBAKI HIDEAKI;KAWABATA KENJI;

    申请日2011-03-04

  • 分类号G03F7/039;C08F26/06;C08F34/00;C08F12/26;C08F20/34;C08F20/60;C08F28/00;C08F32/08;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:43:50

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