首页> 外国专利> A semiconductor device using the positive photosensitive resin composition, cured film, protective film, insulating film, the display device body.

A semiconductor device using the positive photosensitive resin composition, cured film, protective film, insulating film, the display device body.

机译:一种使用正型光敏树脂组合物,固化膜,保护膜,绝缘膜,显示装置主体的半导体装置。

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photosensitive resin composition using a polybenzoxazole precursor having moderate solubility in a nitrogen-free solvent, and hardly causing scum in development (resin residue after development).;SOLUTION: The positive photosensitive resin composition comprises the polybenzoxazole precursor (A) obtained by polymerizing 3,3-diamino-4,4-dihydroxydiphenyl ether as bisaminophenol and isophthalic acid or isophthalic acid and 4,4-dicarboxydiphenyl ether as dicarboxylic acid and a photosensitizing agent (B).;COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
机译:解决的问题:提供一种使用在无氮溶剂中具有中等溶解度并且几乎不引起显影浮渣(显影后的树脂残留物)的聚苯并恶唑前体的正型光敏树脂组合物;解决方案:该正型光敏树脂组合物包含聚苯并恶唑通过将3,3-二氨基-4,4-二羟基二苯醚作为双氨基酚和间苯二甲酸或间苯二甲酸与4,4-二羧基二苯醚作为二羧酸和光敏剂(B)聚合获得的前体(A).COPYRIGHT:(C )2008,日本特许厅

著录项

  • 公开/公告号JP4899844B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-03-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 住友ベークライト株式会社;

    申请/专利号JP20060330551

  • 发明设计人 杉山 広道;豊田 英之;

    申请日2006-12-07

  • 分类号G03F7/023;G03F7/004;G03F7/075;H01L21/027;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 17:36:56

相似文献

  • 专利
  • 外文文献
  • 中文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号