Universite de Sherbrooke (Canada).;
机译:等离子体增强化学气相沉积制备的TiO_x薄膜的特性,用于半导体器件中的硬掩模应用
机译:热线化学气相沉积法超快沉积氮化硅和半导体硅薄膜
机译:通过聚合物源化学气相沉积法沉积的非晶碳化硅薄膜的电特性
机译:等离子体增强化学气相沉积沉积低温p型氢化微晶硅薄膜的表征
机译:氧化铟基透明导电氧化物薄膜的金属有机化学气相沉积:前体合成,膜生长和表征及其在聚合物发光二极管器件中的应用。
机译:等离子体增强化学气相沉积系统合成高c轴ZnO薄膜及其紫外光探测器的应用
机译:聚硅烷聚合物基薄膜的化学气相沉积和表征及其在化合物半导体和硅器件中的应用