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NON-HALOGENATED ETCHANT AND METHOD OF MANUFACTURING A DISPLAY SUBSTRATE USING THE NON-HALOGENATED ETCHANT

机译:非卤化的附魔和使用该非卤化的附魔制造显示基板的方法

摘要

Exemplary embodiments of the present invention disclose a non-halogenated etchant for etching an indium oxide layer and a method of manufacturing a display substrate using the non-halogenated etchant, the non-halogenated etchant including nitric acid, sulfuric acid, a corrosion inhibitor including ammonium, a cyclic amine-based compound, and water.
机译:本发明的示例性实施方式公开了一种用于蚀刻氧化铟层的非卤化蚀刻剂以及使用该非卤化蚀刻剂制造显示基板的方法,该非卤化蚀刻剂包括硝酸,硫酸,包括铵的腐蚀抑制剂。 ,基于环胺的化合物和水。

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