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MODIFIED CADMIUM TELLURIDE LAYER, A METHOD OF MODIFYING A CADMIUM TELLURIDE LAYER, AND A THIN FILM DEVICE HAVING A CADMIUM TELLURIDE LAYER

机译:修饰的碲化镉层,改性碲化镉层的方法以及具有碲化镉层的薄膜装置

摘要

A layer including modified cadmium telluride and unmodified cadmium telluride disposed within the cadmium telluride layer. The modified area includes a concentration of telluride that is greater than the concentration of telluride in the unmodified cadmium telluride area. The modified area also includes a hexagonal close packed crystal structure. A method for modifying a cadmium telluride layer and a thin film device are also disclosed.
机译:设置在碲化镉层内的包括改性碲化镉和未改性碲化镉的层。改性区域包括的碲化物浓度大于未改性碲化镉区域中的碲化物浓度。改性区域还包括六方密堆积晶体结构。还公开了一种用于修饰碲化镉层的方法和薄膜器件。

著录项

  • 公开/公告号US2011308593A1

    专利类型

  • 公开/公告日2011-12-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 JONATHAN M. FREY;

    申请/专利号US20100818669

  • 发明设计人 JONATHAN M. FREY;

    申请日2010-06-18

  • 分类号H01L31/0296;H01L21/30;H01L31/08;H01L29/22;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:31:32

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