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Via and method of via forming and method of via filling

机译:通孔和通孔形成方法以及通孔填充方法

摘要

An electronic or micromechanical device having first (11) and second (12) surfaces and a via extending through the device from the first surface to the second surface. The via comprises integrally formed first (84, 86), second (82) and third (88) portions. The first portion (84, 86) extends from the first surface (11) to the second surface (12). The second portion (82) extends over a part of the first surface (11) of the device. The third portion (88) extends over a part of the second surface (12) of the device. Preferably the first portion comprises first and second parts, the second part extending through an active region of the device and having a narrower width than the first part. A method of forming and filling the via is also disclosed.
机译:一种具有第一表面( 11 )和第二表面( 12 )的电子或微机械设备,以及从该设备的第一表面延伸到第二表面的通孔。该通孔包括整体形成的第一部分( 84、86 ),第二部分( 82 )和第三部分( 88 )。第一部分( 84、86 )从第一表面( 11 )延伸到第二表面( 12 )。第二部分( 82 )在设备的第一表面( 11 )的一部分上延伸。第三部分( 88 )在设备的第二表面( 12 )的一部分上延伸。优选地,第一部分包括第一和第二部分,第二部分延伸穿过装置的有源区域并且具有比第一部分窄的宽度。还公开了一种形成和填充通孔的方法。

著录项

  • 公开/公告号US8232626B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-07-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 YAT KIT TSUI;DAN YANG;XUNQING SHI;

    申请/专利号US20100814938

  • 发明设计人 YAT KIT TSUI;DAN YANG;XUNQING SHI;

    申请日2010-06-14

  • 分类号H01L29/40;H01L21/44;H05K1/11;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:28:29

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