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Bipolar device compatible with CMOS process technology

机译:与CMOS工艺技术兼容的双极设备

摘要

A bipolar device includes: an emitter of a first polarity type constructed on a semiconductor substrate; a collector of the first polarity type constructed on the semiconductor substrate; a gate pattern in a mesh configuration defining the emitter and the collector; an intrinsic base of a second polarity type underlying the gate pattern; and an extrinsic base constructed atop the gate pattern and coupled with the intrinsic base, for functioning together with the intrinsic base as a base of the bipolar device.
机译:一种双极型器件,包括:构造在半导体衬底上的第一极性类型的发射极;以及构造在半导体衬底上的第一极性类型的集电极;网格结构的栅极图案,定义了发射极和集电极;位于栅极图案下方的第二极性类型的本征基极;外在基极构造在栅极图案的顶部并与本征基极耦合,以与本征基极一起用作双极器件的基极。

著录项

  • 公开/公告号US8143644B2

    专利类型

  • 公开/公告日2012-03-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHINE CHUNG;FU-LUNG HSUEH;

    申请/专利号US20080256376

  • 发明设计人 FU-LUNG HSUEH;SHINE CHUNG;

    申请日2008-10-22

  • 分类号H01L29/739;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 17:27:25

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