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Copper damascene and dual damascene interconnect wiring

机译:铜镶嵌和双镶嵌互连布线

摘要

A copper corrosion resistant integrated circuit. The integrated circuit including: a substrate; a copper diffusion barrier layer on the substrate; a dielectric layer on a top surface of the copper diffusion barrier layer; a copper damascene or dual damascene wire in the dielectric layer, a top surface of the copper damascene or dual damascene wire coplanar with a top surface of the dielectric layer; a first capping layer on the top surface of the wire and the top surface of the dielectric layer; and a second capping layer on a top surface of the first capping layer.
机译:一种耐铜腐蚀的集成电路。该集成电路包括:基板;基板上的铜扩散阻挡层;铜扩散阻挡层的顶面上的电介质层。介电层中的铜大马士革或双大马士革线,铜大马士革或双大马士革线的顶面与电介质层的顶面共面;在导线的顶表面和电介质层的顶表面上的第一覆盖层;在第一覆盖层的顶表面上的第二覆盖层。

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