解决方案:用于生长碳化硅单晶的碳化硅原料是在惰性气氛压力为133 Pa至13.3的条件下通过一次升华重结晶过程生长的碳化硅晶体的粉碎材料。 kPa,杂质的分配系数P2为0.001〜0.3。用于生产高纯度碳化硅单晶的方法包括通过使用碳化硅原料来生长4H型碳化硅单晶。碳化硅原料是单晶和多晶之一或两者的压碎材料。碳化硅原料可以通过经受两次或更多次升华重结晶过程而进一步纯化。
版权:(C)2011,日本特许厅&INPIT
公开/公告号JP5333363B2
专利类型
公开/公告日2013-11-06
原文格式PDF
申请/专利权人 新日鐵住金株式会社;
申请/专利号JP20100154342
申请日2010-07-06
分类号C30B29/36;C30B23/06;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 16:55:41