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Semiconductor device having a GaN-based semiconductor layer doped with Fe

机译:具有掺杂有Fe的GaN基半导体层的半导体器件

摘要

A semiconductor device includes: a semiconductor layer made of Fe-doped GaN; a first buffer layer that is provided on the semiconductor layer so as to contact an upper surface of the semiconductor layer and is made of AlN or AlxGa1-xN (0.4x1); and an operating layer that is provided on the first buffer layer and is made of a GaN-based semiconductor.
机译:一种半导体器件,包括:由掺杂Fe的GaN制成的半导体层;以及由半导体层构成的半导体层。第一缓冲层,其设置在半导体层上以接触半导体层的上表面,并且由AlN或Al x Ga 1-x N( 0.4

著录项

  • 公开/公告号US8378388B2

    专利类型

  • 公开/公告日2013-02-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUNORI YOKOYAMA;

    申请/专利号US20100731621

  • 发明设计人 MITSUNORI YOKOYAMA;

    申请日2010-03-25

  • 分类号H01L29/778;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 16:44:42

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