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Method of forming nanopore with self-limited size by atomic layer deposition

机译:通过原子层沉积形成具有自限尺寸的纳米孔的方法

摘要

The preparation of nano- pores are provided with a limited size by atomic layer deposition . Method of manufacturing nano- pores according to an embodiment of the present invention includes forming an opening in the membrane ; And forming a nano- pores formed from the precursor film cover using atomic layer deposition (ALD) on a side wall of the opening; includes , size of the nano- pores are characterized in that they have to be controlled by the size of the precursor . ;
机译:纳米孔的制备通过原子层沉积提供了有限的尺寸。根据本发明的一个实施方案的制造纳米孔的方法包括在膜中形成开口。并且在开口的侧壁上使用原子层沉积(ALD)形成由前体膜覆盖物形成的纳米孔;包括,纳米孔的尺寸特征在于它们必须由前体的尺寸控制。 ;

著录项

  • 公开/公告号KR101226100B1

    专利类型

  • 公开/公告日2013-01-25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号KR20100096910

  • 发明设计人 김기범;이민현;김현미;

    申请日2010-10-05

  • 分类号G01N33/48;G01N35/00;C23C16/455;C23C16/00;

  • 国家 KR

  • 入库时间 2022-08-21 16:25:47

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