机译:在衬底上形成电介质层,包括从工艺气体在等离子体电极和衬底之间产生等离子体,以及通过衬底和工艺气体的至少部分化学反应在衬底上形成电介质层。
公开/公告号DE102011119013A1
专利类型
公开/公告日2013-05-23
原文格式PDF
申请/专利权人 HQ-DIELECTRICS GMBH;
申请/专利号DE201110119013
发明设计人 BECKMANN WILHELM;
申请日2011-11-21
分类号C23C16/50;C23C16/52;C23C16/511;C23C16/505;
国家 DE
入库时间 2022-08-21 16:22:05