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SINGLE-CRYSTAL SUBSTRATE, GROUP III ELEMENT NITRIDE CRYSTAL OBTAINED USING SAME, AND PROCESS FOR PRODUICNG GROUP III ELEMENT NITRIDE CRYSTAL

机译:单晶基质,使用相同方法获得的III类元素氮化物晶体和生产III类元素氮化物的过程

摘要

Provided is a base substrate with which a Group-III nitride crystal having a large area and a large thickness can be grown while inhibiting crack generation. A single-crystal substrate for use in growing a Group-III nitride crystal thereon, which satisfies the following expression (1), wherein Z1 (µm) is an amount of warpage of physical shape in a growth surface of the single-crystal substrate and Z2 (µm) is an amount of warpage calculated from a radius of curvature of crystallographic-plane shape in a growth surface of the single-crystal substrate: -40Z2/Z1-1 : Expression (1).
机译:本发明提供了一种基底基板,在抑制裂纹产生的同时,可以生长具有大面积和大厚度的III族氮化物晶体。用于在其上生长III族氮化物晶体的单晶衬底,满足以下表达式(1),其中Z1(μm)是单晶衬底的生长表面中的物理形状的翘曲量,并且Z2(μm)是根据单晶基板的生长面中的结晶面形状的曲率半径算出的翘曲量:-40 <Z2 / Z1 <-1:式(1)。

著录项

  • 公开/公告号EP2524979A4

    专利类型

  • 公开/公告日2014-01-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION;

    申请/专利号EP20110732931

  • 发明设计人 FUJITO KENJI;UCHIYAMA YASUHIRO;

    申请日2011-01-13

  • 分类号C30B29/38;C23C16/34;C30B19/04;C30B25/20;H01L21/205;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 15:49:10

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