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evaluation method of the oxide semiconductor thin film, and quality control method of the oxide semiconductor thin film, as well as in the above evaluation method evaluation device used

机译:氧化物半导体薄膜的评价方法,氧化物半导体薄膜的质量控制方法以及上述评价方法中使用的评价装置

摘要

机译:

著录项

  • 公开/公告号JP2015130477A5

    专利类型

  • 公开/公告日2015-08-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人

    申请/专利号JP2014104629

  • 发明设计人

    申请日0000-00-00

  • 分类号H01L21/66;H01L29/786;H01L21/336;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:35:44

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