公开/公告号CN105026918B
专利类型发明专利
公开/公告日2018-06-01
原文格式PDF
申请/专利权人 株式会社神户制钢所;
申请/专利号CN201480004370.0
申请日2014-01-09
分类号G01N22/00(20060101);H01L21/336(20060101);H01L29/786(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人张玉玲
地址 日本兵库县
入库时间 2022-08-23 10:12:28
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-06-01
授权
授权
2015-12-02
实质审查的生效 IPC(主分类):G01N22/00 申请日:20140109
实质审查的生效
2015-11-04
公开
公开
机译: 氧化物半导体薄膜品质的评价方法,氧化物半导体薄膜品质的管理方法以及使用上述方法进行质量管理的半导体制造装置
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