机译:如何提供一种气流管理系统和气流管理系统,以减少处理工具中的颗粒数量。
公开/公告号JP5734409B2
专利类型
公开/公告日2015-06-17
原文格式PDF
申请/专利权人 ラム リサーチ コーポレーション;
申请/专利号JP20130501433
发明设计人 レンズ・エリック・エイチ.;
申请日2011-03-23
分类号H01L21/02;H01L21/677;H01L21/306;H01L21/304;
国家 JP
入库时间 2022-08-21 15:30:53