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Method of manufacturing a semiconductor device comprising a semiconductor device and an ESD protection device comprising an ESD protection device.

机译:制造包括半导体器件的半导体器件的方法和包括ESD保护器件的ESD保护器件。

摘要

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce an area required for an ESD protection element.;SOLUTION: A semiconductor device comprises: a P-type or an N-type substrate; a circuit arranged on the substrate; a first electrode pad and a second electrode pad for input or output of the circuit; an impurity diffusion region whose conductivity type is different from the type of the substrate; a first wiring that connects the first electrode pad to the impurity diffusion region; and a second wiring that connects the second electrode pad to an area of the substrate excluding the impurity diffusion region.;COPYRIGHT: (C)2012,JPO&INPIT
机译:解决的问题:减小ESD保护元件所需的面积。解决方案:半导体器件包括:P型或N型衬底;和布置在基板上的电路;用于电路输入或输出的第一电极垫和第二电极垫;杂质扩散区域,其导电类型不同于基板的类型;将第一电极焊盘连接到杂质扩散区域的第一布线; ;第二布线,将第二电极焊盘连接到基板上除杂质扩散区域之外的区域。版权所有:(C)2012,JPO&INPIT

著录项

  • 公开/公告号JP5732763B2

    专利类型

  • 公开/公告日2015-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 大日本印刷株式会社;

    申请/专利号JP20100162903

  • 发明设计人 小岩 進雄;

    申请日2010-07-20

  • 分类号H01L21/822;H01L27/04;H01L27/06;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-21 15:28:44

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