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Controlling template surface composition in nano-imprint lithography

机译:控制纳米压印光刻中的模板表面成分

摘要

A nano-imprint lithography process includes forming a multiplicity of hydroxyl groups on a surface of a substantially inorganic nano-imprint lithography template, heating the template, and reacting a pre-selected percentage of the hydroxyl groups on the surface of the template with a mono-functional, non-fluorinated compound to form a monolayer coating on the surface of the nano-imprint lithography template. The coated template may be contacted with a polymerizable composition disposed on a nano-imprint lithography substrate, and the polymerizable composition solidified to form a patterned layer. The coated template is separated from the patterned layer.
机译:纳米压印光刻工艺包括在基本上无机的纳米压印光刻模板的表面上形成多个羟基,加热该模板,并使模板表面上的预选百分比的羟基与单分子反应。功能性的非氟化化合物在纳米压印光刻模板的表面上形成单层涂层。涂覆的模板可以与设置在纳米压印光刻衬底上的可聚合组合物接触,并且该可聚合组合物固化以形成图案化层。涂覆的模板与图案层分离。

著录项

  • 公开/公告号US9323143B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-04-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 FRANK Y. XU;WEIJUN LIU;

    申请/专利号US20090364979

  • 发明设计人 WEIJUN LIU;FRANK Y. XU;

    申请日2009-02-03

  • 分类号B82Y10/00;B82Y40/00;G03F7/00;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:30:39

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