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Doping and reduction of nanostructures and thin films through flame annealing

机译:通过火焰退火掺杂和还原纳米结构和薄膜

摘要

A sol-flame method includes 1) forming a sol-gel precursor solution of a source of a dopant; 2) coating a nanostructure or a thin film with the sol-gel precursor solution; and 3) subjecting the coated nanostructure or the coated thin film to flame annealing to form a doped nanostructure or a doped thin film.
机译:溶胶-火焰法包括:1)形成掺杂剂源的溶胶-凝胶前体溶液; 2)用溶胶-凝胶前体溶液涂覆纳米结构或薄膜; 3)对涂覆的纳米结构或涂覆的薄膜进行火焰退火以形成掺杂的纳米结构或掺杂的薄膜。

著录项

  • 公开/公告号US9296621B2

    专利类型

  • 公开/公告日2016-03-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利号US201414229445

  • 发明设计人 IN SUN CHO;YUNZHE FENG;XIAOLIN ZHENG;

    申请日2014-03-28

  • 分类号B05D3/08;C01G9/02;C01G49/06;B01J21/06;C01G23/053;C01G31/00;C01G3/02;C23C18/12;B01J37/16;B01J37/34;B01J23/06;B01J23/22;B01J27/20;B01J27/22;B01J35/00;B01J35/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-21 14:29:32

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